现场总线系统控制网络的检查和调试

现场总线控制系统是计算机、网络与自动控制三项技术相互结合的一门新技术。文章介绍了现场总线控制系统仪表网络的典型结构,对现场总线控制系统与集散控制系统进行了比较,论述了现场总线控制系统检查和调试的程序、内容与操作方法。     

CMOS缓冲器的时延估算模型

随着集成电路生产工艺的进展，互连线在集成电路设计中的影响越来越大。为了减小互连线的影响，通常在芯片互连中插入缓冲器，但这样做会增加时延。因此，为了精确地对系统进行时延估计，必须对缓冲器的时延进行估算。基于Sakurai的器件模型，提出了一种新的缓冲器时延估算模型。     

高功率脉冲水中放电的应用及其发展

首先介绍了高功率脉冲水下放电的机理，然后综合论述了其应用和研究的状况，从较为成熟的脉冲水处理技术到医疗领域的ESWL应用技术，以及在脉冲电场食品杀菌和水下目标探测方面的最新发展和研究，最后指出了高功率脉冲电技术应用前景以及进行更系统和深入研究的必要性。     

石油化工可燃气体或蒸气排放系统的消防安全设计

石油化工生产装置大多是通过火炬燃烧排放易燃易爆气体或通过放空管将易爆气体直接排入大气中。文章分析了火炬系统和放空管的火灾危险因素,并从火炬的布置、高度、排放能力、自动监控装置以及放空管的气体排放浓度、安装位置、安全装置等方面,重点论述了火炬系统和放空管的消防安全设计要点。     

流量比对等离子体基团分布和薄膜结构的影响

使用光强标定的发射光谱(AOES)测量了CHF3／C6H6混合气体的微波电子回旋共振(ECR)放电等离子体中基团的分布状态。实验发现随着CHF3流量的增加，成膜基团CF、CF2、CH等的相对密度增大，而刻蚀基团F的密度也会增加，从而使得a—C：F薄膜的沉积速率降低。同时红外吸收谱(IR)分析表明，在高CHF3流量下沉积的a—C：F薄膜中含有更高的C—F键成分。可见在a—C：F薄膜的制备中CHF3／(CHF3 C6H6)流量比是重要的控制参量。     

生存能力技术及其实现案例研究

生存能力技术谋求增强系统在面临攻击、失效等灾难情况下仍能继续提供服务的能力。本文提出了以多样化分布式动态备份技术和主动漂移机制为手段，以被保护目标的机动性和隐蔽性为目的的生存能力技术模型。提出了多样化体系理论及其实现案例，基于该理论设计并实现了自适应TOM方法。最后通过模拟和测试探讨了生存能力的评价方法，并验证了本文的结果。     

浅谈如何有效学习计算机软件知识

计算机软件知识的学习并不是完全线性的，而是不断循环往复、迭代的过程。本对如何深入、广泛、有效地学习计算机软件知识做出了一些探讨。     

纳米Al2O3粉体材料激光烧结成型基础试验研究

基于激光烧结快速成型技术 ,利用CO2 激光对纳米Al2 O3 粉体材料进行激光烧结成型的试验并用扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪等对烧结样品进行分析。结果表明 ,在适当的工艺参数下 ,对Al2 O3 粉体的激光烧结可获得一定形状的、致密的陶瓷块体 ,块体内部晶粒保持在纳米尺度     

扩声系统在体育馆中的典型应用

针对体育馆举办不同类型的大型活动,分别对扩声系统的音质及扩声特点提出要求,以人声和乐器声的频率特性为依据,阐述了调音师在不同场合中对于不同的扩声对象按所要达到的扩声效果应采取的调控方法。     

不同表面预处理对有机电致发光显示器性能的影响

从生产角度研究了基板表面的预处理工艺对OLED性能的影响,分别用UVOzone、氧Plasma以及两者相结合的方式对基板进行表面处理,并按照生产工艺制作器件,从接触角、方阻以及光电特性等测试结果对各种表面处理的样品进行比较。结果表明以上处理都改善了器件性能,不同程度提高了器件的清洁度、亮度和发光效率,其中UVOzone和氧Plasma结合的方式处理效果最为显著,器件在10V时亮度达到79920cd/m2,比其他两种处理方式亮度提高约25%。